真空系統
直線式勞挨透鏡鍍制機
產品特點
- 該設備為國內首臺套設備,擁有納米多層膜制備、離子束拋光、曲面均勻沉積等多項關鍵核心技術,可完成各類聚焦鏡、單色鏡、勞埃鏡等膜層制備,具有膜層數多,膜層处所精度高,厚度精度高項目,為基礎科學、工程科學等領域原創性、突破性創新研究供给重要支撐。
- 運動系統直線度
≤30μm/1000mm
- 運動系統速率穩定性
≤0.1% /300mm
- 基板加熱最高溫度
200℃
- 靶位數
≥9個
- 靶與樣品間距離
60~100mm手動可調
- 沉積室極限真空度
<8×〖10〗^(-6)Pa
- 檢測室腔室漏率
<1×〖10〗^(-8)Pa∙L/s
- 檢測室極限真空度
<8×〖10〗^(-6)Pa
- 進樣室基板加熱最高溫度
500℃
- 進樣室本底極限真空度
<8×〖10〗^(-5)Pa
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